白就有把握将手里的光刻机升级到满级！
    目前，白石湾厂里的光刻机是超·紫外光纳米光刻机，这是一种在工艺上比现有的顶级高精度光刻机还要先进的光刻机，尽管制程只有25纳米，但是在晶圆片进行曝光的时候，仅只需要一次紫外光曝光，大大降低了曝光失败的风险！
    25纳米的制程，生产手机内存和闪存自然是够了，但是对于现在已经发展到14纳米的p端pu和10纳米的手机端pu来说，就是大大的落后了！
    所以，接下来一段时间，慕白准备将那台超紫外光光刻机继续升级，至少达到14纳米程度！
    至于10纳米制程的光刻机，慕白也有点不确定。
    从25纳米到14纳米，中间需要经历20纳米、1八纳米、16纳米诸多难关，基本上20纳米以内，每进步一个纳米都是一次质的飞跃！
    制造pu，除了必备的光刻机，还需要优秀的芯片设计，能够让pu发挥出全部的性能！
    就国内来说，目前似乎就只有华夏科学院计算所有自主研发的通用pu龙芯，采用ris指令集，类似于ips指令集，目前已经发展到了龙芯3b。
    新闻上报道，龙芯3b是首款国产商用八核处理器，主频达到
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